By this author

Preparation of submicron cobalt films using cobalt oxalate as a precursor

Issue number 5 from 03.03.2026

Установлена возможность получения пористых двумерных структур (пленок) кобальта (Co) субмикронной толщины с использованием оксалата кобальта в качестве прекурсора при термической обработке в потоке водорода. Показано, что формирование двумерных структур на жидких легкоплавких металлах (In, Ga) позволяет избежать образования трещин и увеличить цельность тонких пленок Co. Показано, что толщина плёнок Co на кремнии достигает 100 нм, но линейный размер таких листков кобальта не превышает 20 мкм. Использование легкоплавкого индия в качестве подложки позволяет увеличить средний размер пленок кобальта по сравнению с его пленками на кремнии без промежуточного индиевого слоя. Материал представляет собой тонкие двумерные слоистые структуры пористого кобальта, образованные переплетением цепочек зерен металла. Толщина пленки составляет ~500 нм, а линейный размер достигает 200 мкм. Установлена возможность получения прочной металлической пленки Co – 10% Ga на массивной капле галлия размером 20 × 15 мм.

28 0